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涂胶显影机装备厂家光刻的这点事儿

涂胶显影机装备厂家说说光刻的这点事儿:平面型晶体管和集成电路生产中的主要工艺 ,是对半导体晶片外貌的遮蔽物(如二氧化硅)举行开孔 ,以便举行杂质的定域扩散的一种加工手艺 。一样平常的光刻工艺要履历硅片外貌洗濯烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、瞄准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序 。


1. 涂胶显影装备


涂胶显影装备是使用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工 ,与光刻机告竣完善配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺历程 。作为光刻机的输入即曝光前光刻胶涂覆和输出即曝光后图形的显影 ,涂胶显影机的性能不但对细微曝光处的形成造成直接影响 ,并且其显影工艺的图形质量和误差控制对后续蚀刻、离子注入工艺中的图形转移效果也有着深刻的影响 。


2. 光刻装备


通俗来说就是光刻机(Mask Aligner)  ,又名掩模瞄准曝光机 ,曝光系统 ,光刻系统等 ,是制造芯片的焦点装备 。它接纳类似照片冲印的手艺 ,把掩膜版上的细腻图形通过光线的曝光印制到硅片上 。光刻机是生产大规模集成电路的焦点装备 ,需要掌握深挚的光学和电子工业手艺 ,天下上只有少数厂家掌握 ,并且光刻机价钱腾贵 ,通常在 3 万万至 5 亿美元 。


3. 瞄准检测装备


瞄准检测装备主要用于光刻工艺中掩模板与晶圆的瞄准、芯片键适时芯片与基板的瞄准、外貌组装工艺中元器件与PCB基板的瞄准 ,也应用于种种加工历程中 ,如晶圆测试、晶圆划片、种种激光加工工艺中等 。细密检测手艺是瞄准检测的基础 ,检测要领主要有光学检测法和光电检测法 。

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