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半导体涂胶显影机

  半导体装备涂胶显影机是一种将差别工艺制程的机台整合在一起,作为一个整体的制程装备。该装备由载片系统、传送系统和制程系统三部分组成。典范的半导体集束型装备Track机是半导体前道工序装备中黄光区装备之一,其主要功效是光刻胶在晶圆外貌的涂敷和显影。随着半导体装备光刻机新手艺的生长,光刻机产能也在快速提高,特殊是ASML公司的TWINSCAN手艺以及未来基于古板TWINSCAN平台的双重曝光等新兴手艺的成熟,更进一步提高了光刻机的产能,而涂胶显影装备作为与之协作的连线装备,为了匹配高产能力,半导体生产线也对机械人晶圆传送要领提出了更为严苛的要求。 
  半导体工艺是半导体行业的焦点手艺之一,半导体装备制造商的客户都有其独吞工艺设计。这些工艺上带来的特定要求将会给传片系统带来差别水平的影响。鉴于这种特定要求是用户焦点手艺,不但不可推广使用,并且还要求装备制造商为其客户保密,因此允许客户对传送路径的适度修改是较量好的解决步伐之一,这样的利益是阻止了调理算法由于设计盲区造成装备的某些加工单位较低的使用率,提高了半导体装备对半导体工艺的顺应性。由于这种调解完全由客户自主完成,也有利于其焦点手艺的;。 

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